产品与应用

光刻胶
抗反射涂层
聚酰亚胺
超高纯试剂
无尘耗材
光刻胶
光刻胶

正/负光刻胶

Lift off

Lift off光刻胶

型号 胶厚 分辨率 应用场景 BL PR
G/I line正胶系列 7000Å~12000Å 0.3um 0.3um Process SPR955/PFI-58/AR89
10000Å~35000Å 0.5um 0.5um Process MIR701 29CP
30000Å~50000Å 0.5um 0.5um Process MIR701 49CP/AZ6130
30000Å~50000Å 1.5um Implant/Passivation IP5800/IP5700
40000Å~80000Å 1.5um Implant/Passivation /
2um~10um 0.8um Implant/Passivation ZR8690/CY1000
5um~25um 5um Packaging Bumping P4620
Lift off负胶 3um~10um 2um Lift off Metal Process IN057/IN009
1.8um~25um 0.6um Lift off Metal Process /
类型 型号 厚度 N/K Etch Rate BL Barc
Iline Barc TUI1000 1000Å~2000Å n@365nm/1.81, k@365nm/0.34 / XHRiC-11/16
KrF Barc TUK1000 600Å~900Å n@248nm/1.49, k@248nm/0.42 84.4nm/min@CF4/CHF3 DUV4*
TUK2000 700Å-950Å n@248nm/1.51, k@248nm/0.197 115.2nm/min@CF4/CHF3 DUV1*2
TUK3000 1100Å~1600Å n@248nm/1.72, k@248nm/0.19 165.1nm/min@CF4/CHF3 AR2*4
ArF Barc TUA1000 700Å~1100Å n@193nm/1.84, k@193nm/0.33 165.1nm/min@CF4/CHF3/N2 ARC29
TUA2000 700Å~1000Å n@193nm/1.8, k@193nm/0.25 19.74Å/min@CF4/CHF3/N2 ARC68
TUA3000 180Å~300Å n@193nm/1.95, k@193nm/0.28 Fast Etch ARC2*2-302.8

聚酰亚胺

类型 厚度 分辨率 Curing温度 应用场景
低温正性感光PI 1~25um 2um（THK 2um） 180°~250° 滤波器、功率器件
高温正性感光PI 1~12um 2um（THK 2um） 320°~380° 高压功率器件
负性感光PI 10~20um 10um 350° 高压功率器件
非感光PI 3~25um 50um 350° 高压功率器件
类别 产品 包装 级别
G5 G4 G3 G2 G1
光刻试剂 显影液TMAH 2.38% 5L/瓶，20升/瓶，200升/瓶 ✔ ✔ ✔ ✔ ✔
去边液OK73 5L/瓶，20升/瓶，200升/瓶 ✔ ✔ ✔ ✔ ✔
酸碱 硫酸 4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶 ✔ ✔ ✔ ✔ ✔
盐酸 4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶 ✔ ✔ ✔ ✔ ✔
硝酸 4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶 ✔ ✔ ✔ ✔
氢氟酸 4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶 ✔ ✔ ✔ ✔ ✔
氨水 4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶 ✔ ✔ ✔ ✔ ✔
过氧化氢 4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶 ✔ ✔ ✔ ✔ ✔
溶剂 乙醇 4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶 ✔ ✔ ✔
异丙醇 4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶 ✔ ✔ ✔ ✔ ✔
丙酮 4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶 ✔ ✔ ✔ ✔
抗反射涂层