光刻胶

正/负光刻胶

Lift Off光刻胶

型号	胶厚	分辨率	应用场景	BL PR
G/I line正胶系列	7000Å~12000Å	0.3um	0.3um Process	SPR955/PFI-58/AR89
	10000Å~35000Å	0.5um	0.5um Process	MIR701 29CP
	30000Å~50000Å	0.5um	0.5um Process	MIR701 49CP/AZ6130
	30000Å~50000Å	1.5um	Implant/Passivation	IP5800/IP5700
	40000Å~80000Å	1.5um	Implant/Passivation	/
	2um~10um	0.8um	Implant/Passivation	ZR8690/CY1000
	5um~25um	5um	Packaging Bumping	P4620
Lift off负胶	3um~10um	2um	Lift off Metal Process	IN057/IN009
	1.8um~25um	0.6um	Lift off Metal Process	/

抗反射涂层

Barc

类型	型号	厚度	N/K	Etch Rate	BL Barc
Iline Barc	TUI1000	1000Å~2000Å	n@365nm/1.81, k@365nm/0.34	/	XHRiC-11/16
KrF Barc	TUK1000	600Å~900Å	n@248nm/1.49, k@248nm/0.42	84.4nm/min@CF4/CHF3	DUV4*
	TUK2000	700Å-950Å	n@248nm/1.51, k@248nm/0.197	115.2nm/min@CF4/CHF3	DUV1*2
	TUK3000	1100Å~1600Å	n@248nm/1.72, k@248nm/0.19	165.1nm/min@CF4/CHF3	AR2*4
ArF Barc	TUA1000	700Å~1100Å	n@193nm/1.84, k@193nm/0.33	165.1nm/min@CF4/CHF3/N2	ARC29
	TUA2000	700Å~1000Å	n@193nm/1.8, k@193nm/0.25	19.74Å/min@CF4/CHF3/N2	ARC68
	TUA3000	180Å~300Å	n@193nm/1.95, k@193nm/0.28	Fast Etch	ARC2*2-302.8

聚酰亚胺

聚酰亚胺

类型	厚度	分辨率	Curing温度	应用场景
低温正性感光PI	1~25um	2um（THK 2um）	180°~250°	滤波器、功率器件
高温正性感光PI	1~12um	2um（THK 2um）	320°~380°	高压功率器件
负性感光PI	10~20um	10um	350°	高压功率器件
非感光PI	3~25um	50um	350°	高压功率器件

超高纯试剂

类别	产品	包装	级别
			G5	G4	G3	G2	G1
光刻试剂	显影液TMAH 2.38%	5L/瓶，20升/瓶，200升/瓶	✔	✔	✔	✔	✔
	去边液OK73	5L/瓶，20升/瓶，200升/瓶	✔	✔	✔	✔	✔
酸碱	硫酸	4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶	✔	✔	✔	✔	✔
	盐酸	4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶	✔	✔	✔	✔	✔
	硝酸	4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶		✔	✔	✔	✔
	氢氟酸	4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶	✔	✔	✔	✔	✔
	氨水	4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶	✔	✔	✔	✔	✔
	过氧化氢	4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶	✔	✔	✔	✔	✔
溶剂	乙醇	4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶			✔	✔	✔
	异丙醇	4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶	✔	✔	✔	✔	✔
	丙酮	4L/瓶，20升/瓶，200升/瓶		✔	✔	✔	✔

无尘耗材